CVD   Chemical Vapor Deposition   화학 증착, 화학 기상 증착

1. 화학 증착/화학 기상 증착  (Chemical Vapor Deposition, CVD)

  ㅇ 주로, 실리콘 계열 물질의 증착
     - 다양한 반응가스를 화학적으로 반응시켜 표면에 박막 형성

     - 원하는 원자나 분자를 챔버 내에서 화학적으로 생성하여 웨이퍼에 코팅
        . 반응기체와 에너지(열에너지,플라즈마,광학적 여기 등)를 인가함으로써 일어나는
          화학반응에 의존

  ㅇ 기체 분자 원료로부터 화학반응을 거쳐 `박막` 또는 `고체` 재료를 합성해내는 공정
     - 적층시키려는 물질 원자를 포함한 가스가 반응실에 들어가서,
     - 투입된 에너지에 의해,
     - 다른 가스와 화학반응하여 발생 물질이 적층되는 기술
        . 例) 

  ㅇ 화학반응을 일으키게하는 주요 투입 에너지원
     - 열, 플라즈마, 자외선 등

  ㅇ 온도 범위
     - 실온 ~ 1250 ℃

  ㅇ 압력
     - 대기압에 근접한 저압, 고압

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