1. 집적공정 상의 마스크 (Mask)
ㅇ 패턴이 그려진 필름형 유리판
- 회로 구조 상의 각 층별로 원하는 회로 패턴이 그려져있음
※ 마스크의 기하학적 패턴이 주로 광학적 작용에 의해 웨이퍼 기판에 옮겨짐
2. 마스크 구분 용어
ㅇ 패턴 노광(exposure) 전후
- (前) 블랭크 마스크 (blank mask) : 패턴이 그려지기 전의 마스크 재료
- (後) 포토 마스크 (photo mask) : 패턴이 그려진 회로 원판 마스크
ㅇ 재사용성 여부
- 경질 마스크 : 사용하고 난 뒤에도 세척 후 재사용 (hard mask) (수십년간 사용됨)
. 석영 유리 기판 표면에 크롬,산화철 등으로 패턴을 형성시킨 것
. 보통, 크롬 박막 층으로 덮여진 용융 실리카(Fused-silica) 유리판
.. 크롬(Cr) : 노광 파장(248/193 ㎚)에 고도로 불투명 (박막 80~100 ㎚)
.. 용융 실리카 : 고도로 투명함
- 에멀션 마스크 : 정해진 노광 회수 만 사용하고 버려짐 (soft mask)
. 여기서, 에멀션(emulsion)은, 화학 물질에 잘 녹지않는 흑색 필름 물질을 일컬음
ㅇ 레티클 (Reticle) : 여러 번 반복적으로 위치를 바꿀 수 있도록 만든 마스크
- 회로 패턴 크기가 매우 작으므로,
- 통상, 설계 도면의 5배 정도 크기(2x,4x,5x,10x 등)로 패턴이 그려진 유리판
. 레티클 패턴을, 4:1, 5:1, 10:1의 비율로 축소하여, 웨이퍼에 투영시키게 됨
* 요즈음은, `마스크` 및 `레티클`을 용어 구분없이 혼용
3. 마스크 제조 공정
ㅇ 마스크 제조 과정
- 블랭크 마스크 위에 크롬(Chrome)을 증착하고,
- 감광제로 코팅한 후,
- 설계된 이미지를 감광제에 전사시키고,
- 식각(etching) 및 스트립(strip)을 통해 포토 마스크로 만들어짐
ㅇ 마스크 패턴 생성
- 컴퓨터자동설계(CAD) 일종인 전자회로설계자동화(EDA) S/W 도구에 의해 생성된
회로 이미지를 블랭크 마스크 위에 형상화시키는 작업